磁控溅射镀高纯镥（Lu）是一种常用的表面处理技术，主要应用于半导体、电子、光学等领域。  

1.磁控溅射镀膜是一种通过物理方法在基底表面上生成薄膜的技术。它利用磁控辉光放电产生的等离子体，在高真空环境下将镥（Lu）目标材料溅射到基底表面，形成一层均匀、致密、具有较高纯度的膜层。  

2.高纯镥（Lu）是指镥材料的纯度较高，通常要求在99.99%以上。高纯度的镥膜具有优异的物理性能和化学稳定性，适用于一些对化学稳定性、硬度、光学性能等要求较高的应用场景。  

3.磁控溅射镀高纯镥的工艺流程一般包括以下几个步骤：准备目标材料、将基底清洗干净、将目标材料放置在溅射靶位、抽真空将系统压力降低到所需的工作压力、通过磁控辉光放电产生等离子体、用氩气等惰性气体击打镥目标材料、镥原子根据惯性溅射到基底表面、形成薄膜。  

4.磁控溅射镀高纯镥的优点包括：溅射源纯度高、膜层致密度好、可控性强、适用于各种基底材料、薄膜厚度可调。  

5.在应用方面，磁控溅射镀高纯镥主要用于光学薄膜、超导薄膜、显示器件等领域。例如，可将高纯镥薄膜应用于镜片、滤波器、分束器等光学元件，提高光学器件的性能。