磁控溅射是一种常见的镀膜技术，可用于在金属基材表面生成各种合金膜。而镀镍钒合金NiV在某些工业领域有着广泛应用，具有很好的特性和性能。  

磁控溅射是通过将目标（镍、钒等金属）置于真空室内，引入惰性气体（如氩气）产生等离子体，然后在外加磁场的作用下，使金属离子与气体离子发生碰撞，从而形成高能离子束，在金属基材表面形成薄膜。  

磁控溅射制备镀镍钒合金NiV的步骤如下：  

1.准备目标：使用高纯度的镍和钒，按照合金成分的要求进行比例混合，并将其制备成固态的圆柱形或方形固体目标。  

2.清洗基材：将金属基材进行表面清洗，以去除油污和杂质，保证薄膜的粘附性。  

3.建立真空环境：将金属基材和目标置于真空室内，排空室内空气，建立高真空环境。  

4.气体注入：引入惰性气体（如氩气）到真空室内，使气体分子与金属目标形成等离子体。  

5.磁控：通过外加磁场，对金属离子进行引导，形成离子束，使离子束轰击金属基材表面。  

6.膜层合成：离子束轰击金属基材，将目标材料的金属原子释放，并在基材表面形成合金薄膜。随着轰击时间的延长，薄膜的厚度逐渐增加。  

7.冷却：薄膜形成后，进行冷却，使其固化并增强附着力。  

8.完善薄膜性能：根据要求，可以对薄膜进行进一步处理，如退火、表面沉积等，以增强薄膜的性能和稳定性。  

镀镍钒合金NiV的优点包括耐腐蚀性能好、硬度高、粘附力强、抗磨损性好等，因此在一些需要高性能材料的领域，如电子元器件、机械工业等都有广泛的应用。