先进院科技磁控溅射镀高纯硅Si是一种常用的表面处理技术，它在多个领域具有重要的作用。磁控溅射是通过在真空环境下将固体材料表面的金属靶材转变为离子态，然后将其定向沉积在目标衬底上。具体实施时，通过磁场对离子进行加速和定向，使离子能够均匀沉积在衬底表面，并形成致密的高质量薄膜层。  

磁控溅射镀高纯硅Si的作用主要有以下几个方面：  

1.提高材料的附着力：磁控溅射能够将离子沉积在衬底表面上，形成致密结构，从而提高材料与衬底的附着力。这对于某些容易脱落的材料尤为重要，可以保证其在使用过程中的稳定性。  

2.改善材料的导电性能：高纯硅Si在电子学和光电子学领域应用广泛，它具有良好的导电性能。磁控溅射镀膜过程可以控制硅薄膜的导电特性，使其具备更高的电导率和较低的电阻率，从而提高电子器件的性能。  

3.防止氧化和腐蚀：高纯度的硅Si薄膜在常温下稳定性较高，但在高温或湿环境下容易与氧气发生反应从而氧化。磁控溅射过程可以在真空环境下进行，有效防止氧化反应的发生，延长硅薄膜的使用寿命。  

4.调节材料的光学性质：磁控溅射镀膜不仅能够改善硅薄膜的导电性能，同时也可以调节其光学性质。通过调控镀膜工艺参数和所用材料，可以实现对硅薄膜的折射率、透过率等光学性质进行调节，满足不同应用领域的需求。  

总而言之，磁控溅射镀高纯硅Si可以提高材料的附着力，改善导电性能，防止氧化和腐蚀，同时还可以调节材料的光学性质。