先进院科技磁控溅射镀高纯铪Hf，是一种常用的表面处理技术，可用于制备高纯度的铪薄膜。磁控溅射是一种物理气相沉积技术，它通过在真空环境中利用高能离子轰击靶材表面，使其转化为离子态或原子态，然后沉积到基材表面上形成薄膜。  

在磁控溅射过程中，首先要选择纯度高的铪Hf靶材。铪Hf的高纯度对于获得纯净的铪Hf薄膜至关重要。一般情况下，纯度要求在99.999%以上，甚至更高。选取合适的靶材保证了溅射薄膜的化学成分和物理性质的一致性。  

接下来，将靶材放置在真空室内的溅射源位置，并调节真空度至高真空状态，以避免气体分子与溅射薄膜的反应。然后，在靶材表面施加高能离子束，离子在进入气氛后形成离子云。为了提高靶材表面被击碎的产率，通常会施加磁场，使离子云在靶材上作环状运动，增加离子与靶材的碰撞概率。  

离子束击中靶材表面时，靶材会释放出高纯度的铪Hf原子或离子，它们在真空中穿越到基材表面，并沉积形成薄膜。沉积薄膜的性质可以通过控制溅射功率、溅射时间、基材温度等参数来调节。  

磁控溅射镀高纯铪Hf的主要优点是制备的薄膜具有较高的纯度、致密均匀，并且具有良好的附着力和较高的抗腐蚀性。因此，它在微电子、光电子、材料科学等领域得到广泛应用。